苏州众得光电科技有限公司
搜索
技术
技术
|
|
激光直写曝光装备LDW | 光刻机 |
液晶DOE光配向设备：
• 特征尺寸：＜1μm
• 薄膜尺寸：＞200mm
• 相位阶数：2-16
• 掩膜 + 复制能力：适合批量生产
询价/合作意向
✕
✕